UV光解光氧設備

原理介紹：

（1）、利用特制波段（157 nm -189 nm）的高能紫外線(xiàn)光束照射有機廢氣和惡臭氣體，快速裂解廢氣和惡臭氣體的分子鍵，瞬間打開(kāi)和改變其分子結構，破壞其核酸，產(chǎn)生一系列光解裂變反應,重新進(jìn)行DNA分子排列組合，降解轉變?yōu)榈头肿踊瘜W(xué)物，如CO2二氧化碳和H2O水分子等物質(zhì)。

（2）、利用特制波段（157 nm -189 nm）的高能紫外光波照射分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結合，進(jìn)而產(chǎn)生臭氧)；被紫外光波裂解后呈游離狀態(tài)的污染物分子與臭氧氧化結合成小分子無(wú)害或低害的化合物。如CO2二氧化碳分子、H2O水分子等。

（3）、利用特制的TiO2二氧化鈦光觸媒催化氧化過(guò)濾棉，在UV紫外光的照射下，產(chǎn)生光觸催化反應，極大地提升和加強了紫外光波的能量聚變，在更加高能高效地裂解廢氣和惡臭氣味分子的同時(shí)，催化產(chǎn)生更多的活性氧和臭氧，對廢氣和惡臭氣味進(jìn)行更徹底地催化氧化分解反應，使其降解轉化成低分子化合物、水分子和二氧化碳，從而達到脫臭及殺滅細菌的目的。

（4）、高效除惡臭：能高效去除揮發(fā)性有機廢氣（VOCs）及各種惡臭氣味，脫臭效率最高可達99%以上。

產(chǎn)品優(yōu)勢

（1）、凈化效率高，運行穩定。

（2）、結構緊湊、設計新穎、體積小、重量輕、運輸方便。

（3）、噪聲≤45dB（A），設備風(fēng)阻≤100Pa。

（4）、運行成本低、能耗低。

（5）、紫外光氧化分解＋碳化技術(shù)。

（6）、安裝及操作方便。

（7）、清洗及維護方便，使用壽命長(cháng)。

適用場(chǎng)合：

（1）適應范圍廣泛，對VOCs有機廢氣、非甲烷總烴、以及《國家惡臭污染控制標準》中規定的八大惡臭物質(zhì)（氨、硫化氫、二硫化碳、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、三甲胺、苯乙烯）以及苯、甲苯、二甲苯等廢氣均能有效治理凈化，特別適合處理各種惡臭廢氣、腐臭廢氣、噴漆廢氣、噴涂廢氣、電泳廢氣、電鍍廢氣、印刷印染廢氣、生物制藥廢氣、廢水污水臭氣廢氣、污泥臭氣處理等。

（2）可以處理各種廢氣，包括不適合采用等離子處理的廢氣（比如噴漆廢氣、噴涂廢氣、化工廢氣、含汽油酒精廢氣、含天那水廢氣、油漆廠(chǎng)廢氣、化肥廠(chǎng)廢氣等），如果采用UV光解設備，安全性更高。